Reactive Sputtering là gì?

Phún xạ là một kỹ thuật phổ biến để lắng đọng hơi vật lý (PVD) Máy sơn chân không màng cứng của Trung Quốc , một trong những phương pháp sản xuất Lớp phủ màng mỏng. Tiêu chuẩn Sputtering sử dụng mục tiêu là bất kỳ vật liệu tinh khiết nào được mong muốn và một khí trơ, thường là argon.

Nếu vật liệu là một nguyên tố hóa học đơn thuần, các nguyên tử chỉ đơn giản đi ra khỏi mục tiêu ở dạng đó và lắng đọng ở dạng đó.

Tuy nhiên, cũng có thể sử dụng một loại khí không trơ ​​như oxy hoặc nitơ thay cho hoặc (phổ biến hơn) ngoài khí trơ (argon). Khi điều này được thực hiện, khí không trơ ​​bị ion hóa có thể phản ứng hóa học với đám mây hơi vật liệu đích và tạo ra một hợp chất phân tử mà sau đó trở thành màng lắng đọng. Ví dụ, mục tiêu silic phản ứng phụt với khí oxy có thể tạo ra màng oxit silic hoặc với khí nitơ có thể tạo ra màng silic nitrit.