Làm sạch các bước của phôi trước khi phủ trong máy phủ chân không

Để cải thiện độ bám dính và độ mịn của màng mạ trên bề mặt chất nền, cũng như độ nhỏ gọn của màng, trước khi chất nền được treo trong máy phủ chân không, phải thực hiện một bước làm sạch sơ bộ để loại bỏ các vết dầu, bụi, bụi, để đảm bảo nó ở trạng thái sạch.

1. Làm sạch hệ thống nóng chân không

Bệnh nhân được làm nóng dưới áp suất bình thường hoặc chân không. Thúc đẩy sự bay hơi của các tạp chất dễ bay hơi trên bề mặt để đạt được mục đích làm sạch. Hiệu ứng làm sạch của phương pháp này có liên quan đến áp lực xung quanh của phôi, độ dài của thời gian lưu trong chân không, nhiệt độ gia nhiệt, loại chất gây ô nhiễm và vật liệu của phôi. Nguyên tắc là làm nóng phôi. Thúc đẩy sự giải hấp nâng cao của các phân tử nước và các phân tử hydrocarbon khác nhau được hấp phụ trên bề mặt của nó. Mức độ tăng cường giải hấp là phụ thuộc vào nhiệt độ. Dưới chân không cao, để có được các bề mặt sạch về nguyên tử, nhiệt độ gia nhiệt phải cao hơn 450 độ. Phương pháp làm sạch sưởi ấm đặc biệt hiệu quả. Nhưng đôi khi, phương pháp này cũng có thể có tác dụng phụ. Kết quả của việc sưởi ấm, có thể xảy ra là một số hydrocarbon tổng hợp thành các chất kết tụ lớn hơn và đồng thời phân hủy thành dư lượng carbon

2. Làm sạch chiếu xạ cực tím

Sử dụng bức xạ UV để phân hủy hydrocarbon trên bề mặt. Ví dụ, tiếp xúc với không khí trong 15 giờ tạo ra một bề mặt thủy tinh sạch. Nếu các bề mặt được làm sạch đúng cách được đặt trong nguồn UV tạo ozone. Một bề mặt sạch có thể được tạo ra trong vài phút (quá trình sạch). Điều này chỉ ra rằng sự hiện diện của ozone làm tăng tốc độ làm sạch. Cơ chế làm sạch là: dưới sự chiếu xạ tia cực tím, các phân tử bụi bẩn được kích thích và phân tách, và sự tạo ra và sự tồn tại của ozone tạo ra oxy nguyên tử hoạt động cao. Các phân tử bụi bẩn kích thích và các gốc tự do được tạo ra bởi sự phân ly bụi bẩn tương tác với oxy nguyên tử. Các phân tử đơn giản và dễ bay hơi hơn được hình thành. Chẳng hạn như H2O3, CO2 và N2. Tốc độ phản ứng tăng khi tăng nhiệt độ.

3. Làm sạch xả

Phương pháp làm sạch này được sử dụng rộng rãi trong việc làm sạch và khử khí của hệ thống chân không cao và siêu cao. Đặc biệt được sử dụng trong máy tính phủ chân không. Một dây hoặc điện cực nóng được sử dụng làm nguồn điện tử. Áp dụng độ lệch âm lên bề mặt để được làm sạch có thể đạt được giải hấp khí bằng cách bắn phá ion và loại bỏ một số hydrocarbon nhất định. Hiệu ứng làm sạch phụ thuộc vào vật liệu điện cực, hình học và mối quan hệ của nó với bề mặt. Đó là, nó phụ thuộc vào số lượng ion và năng lượng ion trên một đơn vị diện tích bề mặt. Do đó nó phụ thuộc vào năng lượng điện có sẵn. Buồng chân không được lấp đầy bằng một khí trơ (thường là khí AR) ở một áp suất một phần thích hợp. Làm sạch có thể đạt được bằng cách bắn phá ion bằng cách phóng điện phát sáng ở điện áp thấp giữa hai điện cực phù hợp. Trong phương pháp này. Khí trơ được ion hóa và bắn phá thành bên trong của buồng chân không, các bộ phận cấu trúc khác trong buồng chân không và chất nền được mạ, có thể làm cho một số hệ thống chân không được miễn là nướng nhiệt độ cao. Có thể thu được kết quả làm sạch tốt hơn cho một số hydrocarbon nếu oxy được thêm vào khí tích điện. Bởi vì oxy có thể oxy hóa một số hydrocarbon để tạo thành các khí dễ bay hơi dễ dàng được loại bỏ bởi hệ thống chân không. Các thành phần chính của các tạp chất trên bề mặt của các mạch chân không cao bằng thép không gỉ và các mạch chân không siêu cao là carbon và hydrocarbon. Nói chung, carbon trong đó không thể bị bay hơi một mình. Sau khi làm sạch hóa học, cần phải giới thiệu khí hỗn hợp AR hoặc AR O2 để làm sạch phóng xạ, do đó các tạp chất trên bề mặt và khí liên kết với bề mặt do tác động hóa học được loại bỏ. Trong làm sạch xả phát sáng. Các thông số quan trọng là loại điện áp ứng dụng (AC hoặc DC), cường độ của điện áp phóng điện, mật độ hiện tại, loại khí tích điện và áp suất. Thời gian bắn phá. Hình dạng của các điện cực và vật liệu và vị trí của các bộ phận được làm sạch, v.v.

4. Khí xả

(1) Sự xả nitơ

Khi nitơ được hấp phụ trên bề mặt của vật liệu, do năng lượng hấp phụ nhỏ, thời gian lưu trên bề mặt là ngắn. Ngay cả khi nó được hấp phụ trên tường của thiết bị, nó rất dễ được bơm đi. Sử dụng tính chất này của nitơ để xả hệ thống chân không có thể rút ngắn đáng kể thời gian bơm của hệ thống. Ví dụ, trước khi máy phủ chân không được đưa vào khí quyển, hãy lấp đầy buồng chân không bằng nitơ khô để xả nó và sau đó đổ vào khí quyển, thời gian bơm của chu trình bơm tiếp theo có thể được rút ngắn gần một nửa, vì năng lượng hấp phụ của nitơ. Vì vị trí hấp phụ được cố định, nó chứa đầy các phân tử nitơ trước tiên và có rất ít phân tử nước được hấp phụ, do đó rút ngắn thời gian bơm. Nếu hệ thống bị ô nhiễm bởi sự giật gân dầu của bơm khuếch tán, phương pháp xả nitơ cũng có thể được sử dụng để làm sạch hệ thống bị ô nhiễm. Nói chung, trong khi nướng và làm nóng hệ thống, việc xả hệ thống bằng khí nitơ có thể loại bỏ ô nhiễm dầu.

(2) xả khí phản ứng

Phương pháp này đặc biệt phù hợp để rửa bên trong (loại bỏ ô nhiễm hydrocarbon) của các lớp chân không bằng thép không gỉ cực cao lớn. Thông thường, đối với các buồng chân không và các thành phần chân không của một số hệ thống chân không cực cao, để có được các bề mặt sạch về nguyên tử, các phương pháp tiêu chuẩn để loại bỏ ô nhiễm bề mặt là làm sạch hóa chất, rang lò chân không, làm sạch phát sáng và các hệ thống máy hút nước rang năng lượng ban đầu và các phương pháp khác. Các phương pháp làm sạch và khử khí được mô tả ở trên thường được sử dụng trước và trong quá trình lắp ráp hệ thống chân không. Sau khi hệ thống chân không được cài đặt (hoặc sau khi hệ thống hoạt động), vì các thành phần khác nhau trong hệ thống chân không đã được cố định, rất khó để khử các thành phần khác nhau trong hệ thống chân không. Khi hệ thống bị (vô tình) bị ô nhiễm (chủ yếu là số nguyên tử lớn) như ô nhiễm hydrocarbon) thường bị tháo dỡ và tái xử lý trước khi lắp đặt. Với quá trình khí phản ứng, việc khử khí trực tuyến tại chỗ có thể được thực hiện. Loại bỏ hiệu quả ô nhiễm của hydrocarbon trong buồng chân không bằng thép không gỉ. Cơ chế làm sạch của nó: Trong hệ thống, khí oxy hóa (O2, N0) và giảm khí (H2, N H3) được trích dẫn trong hệ thống để thực hiện làm sạch phản ứng hóa học trên bề mặt kim loại để loại bỏ ô nhiễm, để có được bề mặt kim loại sạch nguyên tử. Tốc độ oxy hóa/khử bề mặt phụ thuộc vào sự ô nhiễm và vật liệu của bề mặt kim loại. Tốc độ phản ứng bề mặt được kiểm soát bằng cách điều chỉnh áp suất và nhiệt độ của khí phản ứng. Đối với mỗi chất nền, các tham số chính xác được xác định bằng thực nghiệm. Các tham số này là khác nhau cho các định hướng tinh thể khác nhau.

Được thành lập vào năm 2007 với tư cách là tên trước công nghệ chân không Huahong, là chuyên nghiệp Nhà cung cấp phụ kiện chân không Trung Quốc Và Các nhà sản xuất máy hút bụi , bao gồm nhưng không giới hạn ở các hệ thống phun, các đơn vị lớp phủ quang học, máy luyện kim đợt, hệ thống lắng đọng hơi vật lý (PVD), thiết bị lắng đọng chân không chống mài mòn, thủy tinh, PE, lớp phủ nền PC, máy cuộn đến cuộn để phủ chất nền linh hoạt. Các máy được sử dụng cho một loạt các ứng dụng được mô tả dưới đây (nhưng không giới hạn)) ô tô, trang trí, lớp phủ cứng, lớp phủ cắt công cụ và kim loại và các ứng dụng lớp phủ màng mỏng cho các công nghiệp và phòng thí nghiệm bao gồm các trường đại học. Công ty công nghệ chân không. Công ty chúng tôi tập trung cao vào dịch vụ sau bán hàng tại thị trường trong nước và quốc tế, cung cấp các kế hoạch xử lý một phần chính xác và các giải pháp chuyên nghiệp để đáp ứng nhu cầu của khách hàng.