Phún xạ chân không

1. Giới thiệu

Thường đề cập đến phún xạ magnetron, thuộc về phương pháp phún xạ tốc độ cao ở nhiệt độ thấp. Khí trơ (AR) được làm đầy trong chân không và dòng điện một chiều điện áp cao được thêm vào giữa khoang và mục tiêu kim loại (catốt). Khi điện tử được tạo ra bởi phóng điện phát sáng kích thích khí trơ tạo ra ion dương argon, ion dương di chuyển về phía mục tiêu catốt với tốc độ cao, và nguyên tử mục tiêu bị thổi bay ra ngoài và lắng đọng trên đế nhựa tạo thành màng. Các nhà sản xuất máy sơn chân không bay hơi của Trung Quốc

2, nguyên tắc

Khi các hạt năng lượng cao (thường là các ion dương được gia tốc bởi điện trường) được sử dụng để bắn phá bề mặt chất rắn, hiện tượng các nguyên tử và phân tử trên bề mặt chất rắn trao đổi động năng với các hạt năng lượng cao tới được gọi là hiện tượng phún xạ. Các nguyên tử (hoặc cụm) bị bắn tung tóe có một năng lượng nhất định, chúng có thể được lắng đọng lại và ngưng tụ trên bề mặt của chất nền rắn để tạo thành một màng mỏng.

3. Yêu cầu áp suất không khí đối với phún xạ chân không

Sự phún xạ chân không đòi hỏi phải nạp đầy khí trơ vào trạng thái chân không để tạo ra sự phóng điện phát sáng và mức độ chân không của quá trình này ở trạng thái dòng điện phân tử.

4. Quy trình công nghệ

Theo các đặc tính của chất nền và mục tiêu, lớp phủ phun chân không cũng có thể phun trực tiếp mà không cần sơn lót. Có thể thêm lớp phủ phun chân không bằng cách điều chỉnh dòng điện và thời gian, nhưng không được quá dày và độ dày chung là 0,2 ~ 2um.